Tailoring thin film transistor performance through plasma reactant manipulation in indium oxynitride films

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标题	Tailoring thin film transistor performance through plasma reactant manipulation in indium oxynitride films
网址	http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2023/TC/D3TC02835F
DOI	10.1039/d3tc02835f doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Hyun-Mo Lee; Hye-Mi Kim; Yoon-Seo Kim; Jin-Seong Park 出版日期：2023-09-20
求助人	坦率的忆翠在 2026-03-27 19:34:54 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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