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标题
Effect of Ti buffer layer on stress and time evolution characteristics of boron carbide thin films
网址
https://doi.org/10.1116/6.0005452
DOI
10.1116/6.0005452 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A
作者：Peibo Duan; Jiaoling Zhao; Ge Zhang; Yanyan Yuan
出版日期：2026
求助人
C4MP 在 2026-06-03 17:10:46 发布自四川，悬赏 10 积分
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