| 标题 |
 Parameters of Plasma and Kinetics of Active Particles in CF4 (CHF3) + Ar Mixtures of a Variable Initial Composition 不同初始组成的CF4(CHF3)+Ar混合物中活性粒子的等离子体参数和动力学
相关领域
氟碳化合物
动力学
材料科学
氟
等离子体
离子
激进的
聚合
聚合物
蚀刻（微加工）
分析化学（期刊）
化学工程
化学
有机化学
纳米技术
复合材料
图层（电子）
物理
量子力学
工程类
冶金
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Russian Microelectronics 作者：Alexander Efremov; Д. Б. Мурин; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2018-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
不配.
不想干活
linkman
顺利的琳
小青椒
Meyako
子车茗
xjcy
小伊娃
eric888
七月流火
Dean
科研小废物
罗罗
pluto
柴桑青木
Alice
核桃
鸣笛
..
皖公网安备34019202002308
