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 Mechanisms involved in HBr and Ar cure plasma treatments applied to 193 nm photoresists 相关领域
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：E. Pargon; K. Menguelti; M. Martin; Arnaud Bazin; Odette Chaix‐Pluchery; et al 出版日期：2009-05-01 |
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