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标题
Rigorous ILT optimization for advanced patterning and design-process co-optimization
用于高级图案化和设计过程协同优化的严格ILT优化
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平版印刷术 极紫外光刻 多重图案 计算光刻 光刻 计算机科学 抵抗 光刻胶 光学接近校正 过程(计算) 下一代光刻 节点(物理) 电子工程 材料科学 纳米技术 工程类 电子束光刻 光电子学 操作系统 结构工程 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.2299375 doi
其它 期刊:
作者:Vitaly Domnenko; Bernd Kuechler; W Hoppe; Kyle Braam; Howard Cai; et al
出版日期:2018-03-20
求助人
Mie 在 2025-10-27 04:47:43 发布自贵州,悬赏 20 积分
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