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标题
Ultrasmooth Sub-Nanometer Chemical SiO 2 Surfaces and Enhanced Interface Characteristics via High-pH Fluoride Treatment for Si/HfO 2 MOS Devices
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DOI
10.1021/acsami.5c23465 doi
其它 期刊:ACS Applied Materials & Interfaces
作者:Yu-Chen Chang; Mykhaylo Motylenko; Yu-Tzu Liao; Jingxuan Sun; Martin Kasavetov; et al
出版日期:2026-03-04
求助人
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