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  Effect of substrate bias voltage on structural and tribological properties of W-Ti-C-N thin films produced by combinational HiPIMS and DCMS co-sputtering 衬底偏压对HiPIMS和DCMS共溅射W-Ti-C-N薄膜结构和摩擦学性能的影响
相关领域
材料科学
摩擦学
高功率脉冲磁控溅射
复合材料
薄膜
缩进
分层（地质）
钨
偏压
溅射
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纳米压痕
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期刊：Wear 作者：S.A. Ataie; Mansour Soltanieh; R. Naghizadeh; A. Cavaleiro; Manuel Evaristo; et al 出版日期：2023-02-09 |
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