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![]() 射频磁控溅射氮化硼碳薄膜中铜扩散的研究
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者:Adithya Prakash; Kalpathy B. Sundaram 出版日期:2016-05-02 |
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