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 Effects of RF bias frequency and power on the plasma parameters and ash rate in a remote plasma source 射频偏置频率和功率对远距离等离子体源等离子体参数和灰分率的影响
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Aixian Zhang; Moo Young Lee; Ho Won Lee; Ho Jun Moon; Chin-Wook Chung 出版日期：2021-02-01 |
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