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标题
Stacked nanosheet gate-all-around transistor to enable scaling beyond FinFET
网址
https://doi.org/10.23919/VLSIT.2017.7998183
DOI
10.23919/VLSIT.2017.7998183 doi
其它 期刊：Symposium on VLSI Technology
作者：N. Loubet; Terence B. Hook; P. Montanini; Chun Wing Yeung; S. Kanakasabapathy; et al
出版日期：2017-06-01
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贪玩三娘 在 2026-07-22 23:01:19 发布自广东，悬赏 10 积分
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  • 5小时前

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