Fast and accurate proximity effect correction algorithm based on pattern edge shape adjustment for electron beam lithography

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标题	Fast and accurate proximity effect correction algorithm based on pattern edge shape adjustment for electron beam lithography
网址	https://doi.org/10.1016/j.mejo.2023.105718
DOI	10.1016/j.mejo.2023.105718 doi
其它	期刊：Microelectronics Journal 作者：Wenze Yao; Hongcheng Xu; Haojie Zhao; Ming Tao; Jie Liu 出版日期：2023
求助人	柏不斜在 2026-05-31 23:17:38 发布自北京，悬赏 10 积分
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