| 标题 |
  Single-exposure holographic 3D printing via inverse-designed phase masks 相关领域
制作
全息术
材料科学
3D打印
体素
光致聚合物
光学
结构光
相（物质）
穿透深度
沉积（地质）
可扩展性
光电子学
聚合
快速成型
吞吐量
渗透（战争）
计算机科学
聚合物
纳米技术
平版印刷术
可视化
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| 网址 | |
| DOI |
10.48550/arxiv.2601.06614
doi
提醒：求助人提供的doi与AI识别不一致
10.1126/sciadv.aec3536
Doi
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| 其它 |
期刊：arXiv 作者：Dajun Lin; Xiaofeng Chen; Connor O. Dea; Ji-Won Kim; Keldy S. Mason; et al 出版日期：2026-01-01 |
| 求助人 | |
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(2025-6-4)
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