Characteristics of HfO2 Thin Film Capacitor Deposited by RF Magnetron Sputtering - 科研通

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标题	[高分] Characteristics of HfO2 Thin Film Capacitor Deposited by RF Magnetron Sputtering 射频磁控溅射制备HfO2薄膜电容器的特性相关领域材料科学栅极电介质薄膜溅射沉积电介质电容器高-κ电介质光电子学退火（玻璃）电容溅射分析化学（期刊）腔磁控管晶体管电气工程电压冶金纳米技术化学电极工程类物理化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1166/jno.2021.3017
DOI	10.1166/jno.2021.3017 doi
其它	期刊：Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics 作者：Yang Gyu Bak; Ji Woon Park; Hee Young Lee 出版日期：2021-06-01
求助人	灰机机长在 2024-06-05 20:14:59 发布自山东，悬赏 150 积分
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