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Influence of growth rate on homoepitaxial growth of AlN at 1450 °C by hydride vapor phase epitaxy |
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期刊:Applied Physics Express 作者:Yoshinao Kumagai; Ken Goto; Toru Nagashima; Reo Yamamoto; Michał Boćkowski; Junji Kotani 出版日期:2022 |
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