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标题
Zirconium-doped hafnia (HfZrOx) ferroelectric capacitor with atomic layer deposited HfO2, ZrO2, and La2O3 interfacial layers
具有原子层沉积HfO2、ZrO2和La2O3界面层的锆掺杂铪（HfZrOx）铁电电容器
相关领域
哈夫尼亚 材料科学 兴奋剂 铁电性 锆 图层（电子） 电容器 原子层沉积 化学工程 光电子学 复合材料 陶瓷 电介质 冶金 立方氧化锆 电气工程 工程类 电压
网址
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S027288422...
DOI
10.1016/j.ceramint.2025.04.200 doi
其它 期刊：Ceramics International
作者：Chulwon Chung; Jiyeon Lim; Boncheol Ku; Kyungsoo Park; Changhwan Choi
出版日期：2025-04-16
求助人
珍宝 在 2025-12-26 11:15:56 发布自吉林，悬赏 10 积分
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