The Achievement of Pulse Laser Deposited Amorphous p-Type N-Doped Ga2O3 for Applying in Thin Film Transistor and Homojunction Diode - 科研通

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标题	The Achievement of Pulse Laser Deposited Amorphous p-Type N-Doped Ga2O3 for Applying in Thin Film Transistor and Homojunction Diode 脉冲激光沉积非晶p型N掺杂Ga2O3在薄膜晶体管和同质结二极管中的应用相关领域同质结材料科学光电子学二极管薄膜晶体管兴奋剂无定形固体晶体管激光器薄膜激光二极管脉冲激光器脉冲激光沉积电气工程光学纳米技术工程类电压物理化学结晶学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1109/tdmr.2025.3559225
DOI	10.1109/tdmr.2025.3559225 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Device and Materials Reliability 作者：Teng-Min Fan; Chen Wang; Cong Yi; Chenhao Zhou; Yu‐Li Su; et al 出版日期：2025-01-01
求助人	憨憨在 2025-12-04 19:00:56 发布自上海，悬赏 10 积分
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