| 标题 |
 Precursor design and cascade mechanism of RuO2·xH2O atomic layer deposition 相关领域
原子层沉积
化学
环戊二烯基络合物
分子
配体（生物化学）
催化作用
吡咯
解吸
反应机理
表面改性
吸附
无机化学
图层（电子）
有机化学
物理化学
受体
生物化学
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| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Yongjia Wang; Chenqi Bai; Yongxiao Zhao; Yuanyuan Zhu; Jing Li; et al 出版日期：2024-02-23 |
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