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 Kinetics model for thermal selective etching of Si1−xGex in F2/Ar F2/Ar中Si1-xGex热选择性刻蚀动力学模型
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yi Chen; Daniel J. Cho; John Hoang; Nicholas D. Altieri; Ji Zhu; et al 出版日期：2025-06-20 |
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