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标题
Excellent surface passivation of germanium by a-Si:H/Al2O3 stacks
a-Si：H/Al2O3堆叠对锗的优异表面钝化
相关领域
钝化 原子层沉积 材料科学 光电子学 锗 图层（电子） 无定形固体 硅 薄膜 堆栈（抽象数据类型） 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 结晶学 色谱法 计算机科学 程序设计语言
网址
https://doi.org/10.1063/5.0064808
AI链接 tue.nl tue.nl tue.nldoi.org
DOI
10.1063/5.0064808 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Wilhelmus J. H. Berghuis; Jimmy Melskens; Bart Macco; Roel J. Theeuwes; Lachlan E. Black; et al
出版日期：2021-10-05
求助人
无辜豪英 在 2025-08-23 12:08:11 发布，悬赏 10 积分
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