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Effect of Nitrogen Ratio in Sputtering on the Quality of Film Formation and Electron Emission Properties of Nitride Films
溅射氮比对氮化物薄膜成膜质量和电子发射性能的影响
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锡 材料科学 溅射 氮化物 氮化钛 氮化硼 电阻率和电导率 电导率 氮化钽 氮化锆 薄膜 分析化学（期刊） 钽 复合材料 冶金 纳米技术 图层（电子） 化学 工程类 物理化学 色谱法 电气工程
网址
https://doi.org/10.3390/coatings15010055
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.3390/coatings15010055 doi
其它 期刊：Coatings
作者：Yueqing Gu; J. H. Li; Dan Wang; Na Zhang
出版日期：2025-01-06
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拼搏夜白 在 2025-06-09 18:02:39 发布，悬赏 10 积分
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