| 标题 |
 Atomic layer deposition of tungsten and tungsten-based compounds using WCl5 and various reactants selected by density functional theory 用WCl5和密度泛函理论选择的各种反应物原子层沉积钨和钨基化合物
相关领域
钨
原子层沉积
硼烷
化学气相沉积
氨硼烷
二甲胺
化学工程
放热反应
沉积（地质）
薄膜
化学
金属
材料科学
图层（电子）
纳米技术
无机化学
催化作用
有机化学
古生物学
制氢
沉积物
工程类
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
zcl
Criminology34
chenqiumu
star
昏睡的蟠桃
xxfsx
不配.
changping
小杭76
wlscj
风中冰香
LPPQBB
子车茗
小青椒
嘻嘻哈哈
lalala
GingerF
jelly10
Tourist
哈基米德
zhonglv7
tuanheqi
殷勤的紫槐
皖公网安备34019202002308
