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Reflective X-ray masks for X-ray lithography
X射线光刻用反射式X射线掩模
相关领域
X射线
X射线光刻
平版印刷术
光学
材料科学
物理
抵抗
纳米技术
图层(电子)
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期刊:Journal of micromechanics and microengineering 作者:V.S. Chumak; Sergey Peredkov; A. Yu. Devizenko; I. А. Kopylets; Y. P. Pershyn 出版日期:2024-03-02 |
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