Low-loss silicon waveguides with sidewall roughness reduction using a SiO2 hard mask and fluorine-based dry etching

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标题	Low-loss silicon waveguides with sidewall roughness reduction using a SiO2 hard mask and fluorine-based dry etching
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1088/0960-1317/25/1/01...
DOI	10.1088/0960-1317/25/1/015003 doi
其它	期刊：Journal of Micromechanics and Microengineering 作者：Dong-ho Lee; S. Choo; Ui-Hyeon Jung; Kyung-woon Lee; K. W. Kim; et al 出版日期：2014-01-01
求助人	东非aa 在 2026-10-10 12:15:37 发布自北京，悬赏 10 积分
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