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标题
Lowering interface state density in carbon nanotube thin film transistors through using stacked Y2O3/HfO2 gate dielectric
叠层Y2O3/HfO2栅介质降低碳纳米管薄膜晶体管界面态密度
相关领域
材料科学 光电子学 薄膜晶体管 栅极电介质 跨导 碳纳米管 阈值电压 晶体管 电介质 纳米技术 图层（电子） 电压 电气工程 工程类
网址
https://doi.org/10.1063/1.5039967
DOI
10.1063/1.5039967 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Lin Xu; Ningfei Gao; Zhiyong Zhang; Lian‐Mao Peng
出版日期：2018-08-20
求助人
爱喝面汤的tt 在 2025-05-25 16:02:06 发布自广西，悬赏 10 积分
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