| 标题 |
 Effect of the Precursor Solution Concentration of CuI Thin Film Deposited by Spin Coating Method 前体溶液浓度对旋涂法制备CuI薄膜的影响
相关领域
薄膜
材料科学
旋涂
带隙
透射率
分析化学（期刊）
沉积（地质）
电阻率和电导率
衰减系数
吸收（声学）
涂层
复合材料
光学
化学
纳米技术
色谱法
光电子学
古生物学
物理
工程类
沉积物
电气工程
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced materials research 作者：Nur Amalina Muhamad; Muhammad Atiq Azman; Mohamad Mahmood Rusop 出版日期：2011-10-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
SYLH
鸣笛
ceeray23
coolkid
昏睡的蟠桃
yznfly
风清扬
iNk
乐观小之
herococa
卡卡西
眯眯眼的衬衫
柔弱的舞蹈
苏卿
GingerF
孙燕
机灵的茹妖
shinysparrow
pluto
8R60d8
皖公网安备34019202002308
