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![]() C4F8和C4F8/Ar气体混合物等离子体图案转移过程中纳米多孔二氧化硅的等离子体-表面相互作用
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Xuefeng Hua; Christian Stolz; G. S. Oehrlein; P. Lazzeri; N. Coghe; et al 出版日期:2004-12-20 |
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