Anisotropy mechanism of material removal and damage formation in single crystal 4H-SiC scratching - 科研通

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标题	Anisotropy mechanism of material removal and damage formation in single crystal 4H-SiC scratching
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S092401362...
DOI	10.1016/j.jmatprotec.2025.118768 doi
其它	期刊：Journal of Materials Processing Technology 作者：Xiaoyu Bao; Wen Zheng; Huixin Xing; Xingyu Wang; Qingliang Zhao; et al 出版日期：2025-02-15
求助人	洛尚在 2026-01-28 19:43:49 发布自美国，悬赏 10 积分
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