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标题
High-speed etching of gallium nitride substrate using hydrogen-contained atmospheric-pressure plasma
常压氢等离子体高速刻蚀氮化镓衬底
相关领域
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网址
https://doi.org/10.35848/1882-0786/accc0c
DOI
10.35848/1882-0786/accc0c doi
其它 期刊：Applied Physics Express
作者：Yasuhisa Sano; Genta Nakaue; Daisetsu Toh; Jumpei Yamada; Kazuto Yamauchi
出版日期：2023-04-01
求助人
栗子 在 2025-12-03 21:28:24 发布自江西，悬赏 10 积分
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