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  Nanometer-thick molecular beam epitaxy Al films capped with in situ deposited Al2O3—High-crystallinity, morphology, and superconductivity 原位沉积Al2O3覆盖的纳米厚分子束外延Al膜——高结晶度、形貌和超导电性
相关领域
材料科学
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外延
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Y.H. Lin; C. K. Cheng; L. Young; Li-Hung Chiang; Wan-Sin Chen; et al 出版日期：2024-08-15 |
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