Chemical Mechanical Polishing of a Fluorinated Carbon Low Dielectric Constant Interlayer and a Tantalum Nitride Barrier Layer by Magnesium Oxide Slurry

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标题	Chemical Mechanical Polishing of a Fluorinated Carbon Low Dielectric Constant Interlayer and a Tantalum Nitride Barrier Layer by Magnesium Oxide Slurry 氧化镁浆料对氟化碳低介电常数夹层和氮化钽阻挡层的化学机械抛光相关领域泥浆材料科学抛光钽镁化学机械平面化氧化物图层（电子）电介质氮化钽氮化物碳纤维复合材料冶金复合数光电子学
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1149/1.1390829
DOI	10.1149/1.1390829 doi
其它	期刊：Electrochemical and Solid-State Letters 作者：Tohru Hara 出版日期：2002-07-29
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