Effect of Sputtering Pressure on the Properties of Large Area IWO Thin Films Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering

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标题	Effect of Sputtering Pressure on the Properties of Large Area IWO Thin Films Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering 溅射压力对直流磁控溅射大面积IWO薄膜性能的影响
网址	https://doi.org/10.1016/j.cap.2024.05.006
DOI	10.1016/j.cap.2024.05.006 doi
其它	期刊：Current Applied Physics 作者：Tianyu Yu; Yunlei Jiang; Suxia Liang; Zhiguo Zhao; Sheng Zou; et al 出版日期：2024
求助人	蔡从安在 2024-05-09 12:37:36 发布自浙江，悬赏 10 积分
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