| 标题 |
  Growth Characteristics and Film Properties of Cerium Dioxide Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition 相关领域
原子层沉积
材料科学
铈
薄膜
氧化剂
成核
化学工程
微电子
退火（玻璃）
微晶
分析化学（期刊）
热稳定性
弹性后坐力检测
钝化
纳米技术
化学
图层（电子）
复合材料
冶金
有机化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Woo‐Hee Kim; Min‐Kyu Kim; W. J. Maeng; Julien Gatineau; Venkat Pallem; et al 出版日期：2011-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
Criminology34
buno
BowieHuang
pluto
Stella
yznfly
子车茗
nn
eric888
蓝天
在这无人的城堡肆无忌惮的奔跑
舒心凡
玄风
彭于彦祖
lmy9988
蚊蚊爱读书
不安青牛
花源
spc68
zhonglv7
乐空思
wuyao
ceeray23
皖公网安备34019202002308
