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  Assessing tolerances in direct write laser grayscale lithography and reactive ion etching pattern transfer for fabrication of 2.5D Si master molds 用于制造2.5 D硅母模的直写激光灰度光刻和反应离子蚀刻图案转移的公差评估
相关领域
反应离子刻蚀
制作
灰度
材料科学
平版印刷术
蚀刻（微加工）
干法蚀刻
光电子学
激光器
纳米技术
光学
物理
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医学
替代医学
图层（电子）
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期刊：Micro and Nano Engineering 作者：Joåo Cunha; Inês S. Garcia; Joana D. Santos; José O. Fernandes; Pedro González‐Losada; et al 出版日期：2023-04-06 |
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huangtao
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