Performance of Transparent Indium–Gallium–Zinc Oxide Thin Film Transistor Prepared by All Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition

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标题	Performance of Transparent Indium–Gallium–Zinc Oxide Thin Film Transistor Prepared by All Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition 全等离子体增强原子层沉积法制备透明铟镓锌氧化物薄膜晶体管的性能相关领域薄膜晶体管材料科学原子层沉积分析化学（期刊）薄膜光电子学图层（电子）物理纳米技术化学有机化学
网址	https://doi.org/10.1109/led.2023.3239379
DOI	10.1109/led.2023.3239379 doi
其它	期刊：IEEE Electron Device Letters 作者：Qi-Zhen Chen; Chun-Yan Shi; Ming-Jie Zhao; Peng Gao; Wan-Yu Wu; et al 出版日期：2023-03-01
求助人	你一头牛牛牛牛在 2024-01-10 16:29:57 发布自四川，悬赏 10 积分
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