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The effect of an annealing process on atomic layer deposited TiO2 thin films
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网址
https://doi.org/10.1088/1361-6528/ac2f28
DOI
10.1088/1361-6528/ac2f28 doi
其它 期刊：Nanotechnology
作者：Byunguk Kim; Taeseong Kang; Gucheol Lee; Hyeongtag Jeon
出版日期：2021-11-05
求助人
Vecyu 在 2023-06-05 17:07:51 发布自江苏，悬赏 10 积分
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