标题 |
Residue-free plasma etching of polyimide coatings for small pitch vias with improved step coverage
改进台阶覆盖率的小间距过孔聚酰亚胺涂层的无残留等离子刻蚀
相关领域
聚酰亚胺
材料科学
反应离子刻蚀
等离子体刻蚀
蚀刻(微加工)
制作
干法蚀刻
复合材料
等离子体
各向同性腐蚀
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医学
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物理
病理
量子力学
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 作者:Benjamin Mimoun; Hoa T. M. Pham; Vincent Henneken; Ronald Dekker 出版日期:2013-01-24 |
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