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A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities
一种利用极高靶功率密度的新型脉冲磁控溅射技术
相关领域
材料科学
高功率脉冲磁控溅射
溅射沉积
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其它 |
期刊:Surface & Coatings Technology 作者:Vladimir Kouznetsov; Karol Macak; Jochen M. Schneider; Ulf Helmersson; Ivan Petrov 出版日期:1999-12-15 |
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