Synergistic Engineering of Top Gate Stack for Low Hysteresis 2D MoS2 Transistors

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标题	Synergistic Engineering of Top Gate Stack for Low Hysteresis 2D MoS2 Transistors 低磁滞2D MoS2晶体管顶栅叠层的协同设计相关领域材料科学晶体管栅极电介质 CMOS芯片光电子学电介质响应度半导体场效应晶体管阈值电压纳米技术电气工程光电探测器电压工程类
网址	https://doi.org/10.1002/adfm.202400008
DOI	10.1002/adfm.202400008 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Chuming Sheng; Xinyu Wang; Xiangqi Dong; Yan Hu; Yuxuan Zhu; et al 出版日期：2024-03-19
求助人	冬至季在 2025-07-08 20:05:44 发布自中国，悬赏 10 积分
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