Topological Semimetal Enhancement Enables Ultra‐Sensitive Flat‐Panel X‐Ray Imaging in Hydrogen‐Bonded MAPbI 3 /(TaSe 4 ) 2 I Wafers

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标题	Topological Semimetal Enhancement Enables Ultra‐Sensitive Flat‐Panel X‐Ray Imaging in Hydrogen‐Bonded MAPbI 3 /(TaSe 4 ) 2 I Wafers
网址	https://advanced.onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/adf...
DOI	10.1002/adfm.202528956 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Limei Wei; Lishan Liu; Shaocong Lv; Shuai Liu; Qihui Cui; et al 出版日期：2026-07-16
求助人	李家静在 2026-07-16 16:21:21 发布自陕西，悬赏 10 积分
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