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High-temperature atomic layer deposition of HfO2 film with low impurity using a novel Hf precursor |
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期刊:Journal of Materials Chemistry C 作者:Jae Chan Park; Chang Ik Choi; Woong Pyo Jeon; Tran Thi Ngoc Van; Woo‐Hee Kim; et al 出版日期:2024-12-28 |
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(2025-6-4)