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 Depth-of-focus enhancement in high-numerical aperture EUV lithography by source and mask optimization 相关领域
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10.1117/1.jmm.25.2.021208
Doi
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| 其它 |
期刊： 作者：Guillaume Libeert; Joern-Holger Franke; Sofia Leitao; Natalia Davydova; P. Ramachandran; et al 出版日期：2025-11-06 |
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