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标题
Producing Microscale Ge Textures via Titanium Nitride‐ and Nickel‐Assisted Chemical Etching with CMOS‐Compatibility
通过氮化钛和镍辅助化学蚀刻制备具有CMOS兼容性的微尺度Ge织构
相关领域
材料科学 微尺度化学 各向同性腐蚀 钛镍合金 镍 相容性（地球化学） 钛 氮化钛 氮化物 蚀刻（微加工） 冶金 纳米技术 光电子学 复合材料 形状记忆合金 图层（电子） 数学教育 数学
网址
https://doi.org/10.1002/admi.202100937
AI链接 handle.net edu.sgdoi.org
DOI
10.1002/admi.202100937 doi
其它 期刊：Advanced Materials Interfaces
作者：Yikai Liao; Sang Ho Shin; Yuhao Jin; Qi Jie Wang; Munho Kim
出版日期：2021-09-27
求助人
pengyufen 在 2025-08-29 18:21:51 发布，悬赏 10 积分
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