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[高分]
  Selective CaAs／AlGaAs RIE Etching Using SIC<sub>4</sub>／CF<sub>4</sub>／He Gas Mixture 使用SIC4/CF4/He气体混合物选择性CaAs/AlGaAs RIE刻蚀
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
化学
纳米技术
图层（电子）
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期刊：Denki Kagaku oyobi Kogyo Butsuri Kagaku 作者：Y. Mizunuma; Yoshikazu Murakami 出版日期：1991-12-05 |
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