| 标题 |
 Atomic layer deposition of molybdenum oxide using (N Bu)2(NMe2)2Mo, hydrogen peroxide (H2O2), and ozone (O3) for DRAM application 用于DRAM应用的使用(nBu)2(NMe2)2Mo、过氧化氢(H2O2)和臭氧(O3）的氧化钼原子层沉积
相关领域
原子层沉积
材料科学
锡
钼
过氧化氢
薄板电阻
薄脆饼
钝化
氧化物
结晶度
分析化学（期刊）
图层（电子）
化学工程
纳米技术
冶金
化学
复合材料
有机化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Ceramics International 作者：Seung-Hwan Lee; Hae Lin Yang; Beom Seok Kim; Jin‐Ho Lee; Hanjin Lim; et al 出版日期：2022-10-13 |
| 求助人 |
华仔
在
2025-08-04 19:16:13 发布，悬赏 10 积分
|
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
闪闪雁兰
SYLH
COSMAO
guozizi
EDSS
vchen0621
YifanWang
Kirito
Wei
霸气若血
fancynancy
生椰拿铁死忠粉
gus
Lucas
周晏平
zchchem
高兴的苞络
小花排草
eric888
酷波er
皖公网安备34019202002308
