Modulating the resistivity of MoS2 through low energy phosphorus plasma implantation

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标题	Modulating the resistivity of MoS2 through low energy phosphorus plasma implantation 相关领域电阻率和电导率离子注入材料科学退火（玻璃）拉曼光谱溅射光电子学等离子体刻蚀反应离子刻蚀蚀刻（微加工）分析化学（期刊）离子纳米技术薄膜复合材料化学图层（电子）光学电气工程有机化学物理工程类色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.4989829
DOI	10.1063/1.4989829 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：K. Haynes; Ryan Murray; Z. Weinrich; Xueying Zhao; Daniele Chiappe; et al 出版日期：2017-06-26
求助人	buran 在 2025-11-11 19:22:00 发布自湖南，悬赏 10 积分
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