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 Electron beam mask writer EBM-8000P for high throughput mask production 用于高通量掩模生产的电子束掩模写入器EBM-8000P
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期刊： 作者：Takafumi Iijima; Satoshi Nakahashi; Ryo Iikubo; Takahiro Honbu; Shinsuke Nishimura; et al 出版日期：2020-03-23 |
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