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The Etching of Silicon Nitride in Phosphoric Acid with Silicon Dioxide as a Mask
以二氧化硅为掩模的磷酸中氮化硅的刻蚀
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网址
https://doi.org/10.1149/1.2426757
DOI
10.1149/1.2426757 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：W. van Gelder; V.E. Hauser
出版日期：1967-01-01
求助人
1433223 在 2025-12-25 13:51:16 发布自天津，悬赏 10 积分
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