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 Enabling complimentary FET (CFET) fabrication: selective, isotropic etch of Group IV semiconductors (Conference Presentation) 实现互补FET(CFET)制造：IV族半导体的选择性各向同性蚀刻（会议演示）
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期刊： 作者：Subhadeep Kal; Yusuke Oniki; Matthew Falugh; Cheryl Pereira; Qi Wang; et al 出版日期：2019-03-18 |
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