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标题
Comprehensive Study of Improved Negative-Bias-Illumination-Temperature Stress Stability in Terbium-Doped Indium-Zinc-Oxide Thin-Film Transistors
改善掺Tb铟锌氧化物薄膜晶体管负偏压-光照-温度应力稳定性的综合研究
相关领域
兴奋剂 薄膜晶体管 材料科学 物理 分析化学(期刊) 光电子学 纳米技术 化学 有机化学 冶金 图层(电子)
网址
DOI
10.1109/TED.2023.3273511 doi
求助人
cyy 在 2024-04-29 13:12:54 发布自广东,悬赏 10 积分
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