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  CeO2 Doping of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films for High Endurance Ferroelectric Memories 用于高耐久性铁电存储器的Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的CeO2掺杂
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期刊：Advanced electronic materials 作者：Zhouchangwan Yu; Balreen Saini; Po‐Yung Liao; Y. K. Chang; Duen‐Huei Hou; et al 出版日期：2022-03-18 |
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